A.腭小凹是口內(nèi)粘液腺導(dǎo)管的開口
B.位于上腭中縫后部兩側(cè)
C.?dāng)?shù)目多為并列的兩個、左右各一
D.上頜義齒的后緣應(yīng)止于腭小凹
E.位于軟硬腭連接處的稍后方
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A.右上1的蓋嵴部沒有機(jī)械固位的固位形
B.人工牙上的蠟未去除干凈
C.沒有加增力絲
D.基托太薄
E.右上1的舌側(cè)沾染有分離劑
A.下層盒石膏表面粗糙或有倒凹存在
B.分離劑未涂布好
C.人工牙太靠近型盒邊緣
D.石膏尚未完全凝固即開盒去蠟
E.覆蓋在人工牙上的石膏厚度不夠
A.增加義齒強(qiáng)度
B.使義齒邊緣封閉更好
C.有助于義齒的固位
D.適應(yīng)口腔內(nèi)軟組織的活動
E.更加美觀
A.上頜基托頰側(cè)形成向上外的凹斜面
B.上頜基托腭側(cè)形成向上內(nèi)的凹斜面
C.下頜基托的頰側(cè)在前磨牙區(qū)平而薄,在磨牙區(qū)形成向下外的凹斜面
D.下頜基托的舌側(cè)形成向下內(nèi)的凹斜面
E.以上說法都不對
A.必要時可加深后牙的中央窩
B.不能加深任何后牙的中央窩
C.不能磨短上頜后牙舌尖
D.不能磨短下頜后牙的頰尖
E.可調(diào)整下頜后牙的頰尖
A.加大后牙補(bǔ)償曲線曲度
B.減小后牙補(bǔ)償曲線曲度
C.增大牙尖工作面斜度
D.減小前牙的覆
E.增大前牙的覆
A.前伸平衡時,上、下前牙切緣相對
B.單側(cè)后牙的牙尖有接觸
C.雙側(cè)后牙的牙尖有接觸
D.上、下后牙只能有一對后牙接觸
E.達(dá)到前后三點(diǎn)平衡接觸
A.盡可能擴(kuò)大基托面積
B.減小人工后牙的頰舌徑
C.增加牙數(shù)目
D.人工后牙應(yīng)排在牙槽嵴頂上
E.人工后牙稍偏頰側(cè)
A.距離義齒邊緣遠(yuǎn)近程度不同
B.各部分骨質(zhì)吸收程度不同
C.承受力的大小不同
D.全口義齒與各部位接觸關(guān)系不同
E.粘膜及粘膜下組織結(jié)構(gòu)不同
A.上頜中切牙的近中面與堤上所畫中線一致
B.上頜中切牙近中面與面中線一致
C.切緣位于平面之上1mm
D.切緣與平面接觸
E.遠(yuǎn)中稍向舌側(cè)扭轉(zhuǎn)
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