A.局部按摩
B.音頻電療法
C.超聲波療法
D.紅外線、蠟療
E.局部紫外線照射
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C.超聲波療法
D.紅外線、蠟療
E.局部紫外線照射
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D.紅外線、蠟療
E.局部紫外線照射
A.ROM在5°~60°
B.ROM在0°~90°
C.行走時(shí)ROM在60~120°
D.當(dāng)足跟著地時(shí)屈曲最大,而當(dāng)足根部離地時(shí),接近完全伸直
E.當(dāng)足跟著地時(shí)約為背屈70°,而當(dāng)足趾離地時(shí)約為跖屈110°
A.ROM在5°~60°
B.ROM在0°~90°
C.行走時(shí)ROM在60~120°
D.當(dāng)足跟著地時(shí)屈曲最大,而當(dāng)足根部離地時(shí),接近完全伸直
E.當(dāng)足跟著地時(shí)約為背屈70°,而當(dāng)足趾離地時(shí)約為跖屈110°
A.5~60°
B.45~150°
C.60~120°
D.70~110°
E.旋前,旋后的中立位
A.5~60°
B.45~150°
C.60~120°
D.70~110°
E.旋前,旋后的中立位
A.5~60°
B.45~150°
C.60~120°
D.70~110°
E.旋前,旋后的中立位
A.屈曲20°
B.屈曲90°
C.背伸20°
D.旋前、旋后的中立位
E.外展50°,前屈20°,內(nèi)旋25°
A.屈曲20°
B.屈曲90°
C.背伸20°
D.旋前、旋后的中立位
E.外展50°,前屈20°,內(nèi)旋25°
A.屈曲20°
B.屈曲90°
C.背伸20°
D.旋前、旋后的中立位
E.外展50°,前屈20°,內(nèi)旋25°
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