A.遠中支托、頰臂、舌臂
B.近中支托、Ⅰ桿頰臂、舌臂
C.鄰面板、頰臂、舌臂
D.遠中支托、Ⅰ桿頰臂、舌臂
E.近中支托、鄰面板、Ⅰ桿頰臂
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A.外形高點線上
B.外形高點線牙合方
C.外形高點線齦方
D.導線的牙合方
E.導線的齦方
A.無異物感
B.對基牙不產(chǎn)生矯治性移位
C.不易積存食物
D.避免口內(nèi)使用不同種類的金屬
E.取戴時,對基牙無側(cè)方壓力
A.避免牙髓再度受刺激
B.保持患牙的牙位
C.避免胎面磨損
D.保持近、遠中間隙
E.為戴冠提供便利
A.1.0mm
B.1.5mm
C.2.0mm
D.0.5mm
E.以上都不是
A.容易引起崩瓷
B.會降低金瓷界面的熱穩(wěn)定性
C.瓷層會引起金屬基底變形
D.會引起金瓷冠頸部不密合
E.會使基牙出現(xiàn)冷熱酸痛和不適
A.齦溝內(nèi)是免疫區(qū)
B.修復體邊緣密合性好
C.不易產(chǎn)生繼發(fā)齲
D.美觀
E.防止菌斑附著
A.齦邊緣達到位置
B.穩(wěn)定性好
C.咬合基本合適
D.固位良好
E.無翹動
A.全冠組織面有金屬瘤
B.鄰接觸緊
C.石膏代型磨損
D.未完全就位
E.預備體軸壁聚合度大
A.位于腭中縫的后部
B.位于軟硬腭交界處的稍后方
C.數(shù)目多為并列的兩個,左右各一
D.上頜義齒的后緣應止于腭小凹
E.腭小凹是口內(nèi)黏膜腺導管的開口
A.大氣壓力
B.黏著力
C.附著力
D.摩擦力
E.內(nèi)阻力
最新試題
上下牙列不接觸,下頜處于安靜狀態(tài)時的位置稱為()
屬于固定義齒冠內(nèi)固位體的是()
具有支持作用的卡環(huán)為()
牙體預備量相對較少的是()
觀測器分析桿沿牙冠軸面最突點所畫出的連線是()
主要依靠箱狀洞形固位的修復體是()
倒凹集中在左側(cè),義齒應()
雙側(cè)器分析桿垂直到倒凹區(qū)某牙的一點水平距離是()
屬于根內(nèi)固位體的是()
可摘局部義齒中關(guān)于卡環(huán)體與卡環(huán)臂的描述中,正確的是()