A.下半口義齒后緣應(yīng)蓋過磨牙后墊1/3~1/2
B.排牙時(shí),下頜第一磨牙的面應(yīng)與磨牙后墊的1/2等高
C.排下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣
D.磨牙后墊與下頜尖牙的近中面形成一個(gè)三角形,一般情況下,下頜后牙的頰尖應(yīng)位于此三角形內(nèi)
E.磨牙后墊是邊緣封閉區(qū)
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A.舌側(cè)翼緣區(qū)后部
B.頰側(cè)翼緣區(qū)
C.遠(yuǎn)中頰角區(qū)
D.下頜隆突區(qū)
E.下頜舌骨嵴區(qū)
A.缺牙時(shí)間久,面頰向內(nèi)凹陷
B.后牙超小
C.上頜結(jié)節(jié)和磨牙后墊部位的基托間隙過小
D.舌體增大
E.垂直距離過低
A.基托與組織面不密合
B.義齒基托過長(zhǎng)過厚
C.義齒基托過短過薄
D.系帶區(qū)緩沖過多
E.磨牙后墊區(qū)伸展過長(zhǎng)
A.義齒基托過短
B.義基托過長(zhǎng)過厚
C.基托與組織面不密合
D.系帶區(qū)緩沖過多
E.磨牙后墊區(qū)伸展過長(zhǎng)
A.近中舌尖與平面接觸
B.近中頰尖與平面接觸
C.遠(yuǎn)中舌尖與平面接觸
D.遠(yuǎn)中頰尖與平面接觸
E.以上均不對(duì)
A.前脫位
B.后脫位
C.齦方脫位
D.方脫位
E.擺動(dòng)
A.導(dǎo)線是基牙牙冠外形高點(diǎn)線,隨觀測(cè)方向改變而改變
B.導(dǎo)線是基牙牙冠外形高點(diǎn)線,不隨觀測(cè)方向改變而改變
C.導(dǎo)線是觀測(cè)器分析桿圍繞基牙牙冠軸面最突點(diǎn)所畫出的連線,隨觀測(cè)方向改變而改變
D.導(dǎo)線是觀測(cè)器分析桿沿牙冠軸面最突點(diǎn)所畫出的連線,不隨觀測(cè)方向改變而改變
E.以上全不正確
A.常用于遠(yuǎn)中游離端義齒
B.基牙下存在有軟組織倒凹
C.口腔前庭深度不足
D.卡環(huán)臂的堅(jiān)硬部分位于觀測(cè)線上方
E.卡環(huán)臂堅(jiān)硬部分與觀測(cè)線上緣接觸
A.外形由不同的斜面構(gòu)成
B.要有利于固位
C.呈凸面
D.表面光潔
E.有利于美觀
A.大氣壓力
B.吸附力
C.唾液的黏稠度
D.舌的位置
E.摩擦力
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義齒間隙指的是()
下頜磨牙后墊屬于()
牙體預(yù)備量相對(duì)較少的是()
倒凹區(qū)牙面與基牙長(zhǎng)軸之間的角度()
主要起支持作用的是()
倒凹集中在左側(cè),義齒應(yīng)()
上下牙列不接觸,下頜處于安靜狀態(tài)時(shí)的位置稱為()
就位道與脫位道之間形成的角度是()
肯氏四類牙列缺損,義齒最佳就位方向?yàn)椋ǎ?/p>
下頜處于正中頜位時(shí),上下牙槽嵴頂之間的距離稱為()