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單項(xiàng)選擇題在義齒基托覆蓋區(qū)內(nèi)，不需要緩沖模型的部位是（）

A.上頜腭隆突區(qū)
B.下頜舌隆突
C.下頜舌骨嵴區(qū)
D.上頜結(jié)節(jié)
E.下頜舌側(cè)翼緣區(qū)

1.單項(xiàng)選擇題支架模型緩沖時(shí)在缺牙區(qū)牙槽嵴表面和需塑料包埋的連接體相應(yīng)部位表面均應(yīng)襯墊薄層蠟片，其厚度一般為（）

A.0.5～0.7mm
B.0.1～0.2mm
C.1.0～1.5mm
D.2.0～3.0mm
E.3.0～5.0mm

2.單項(xiàng)選擇題 前磨牙支托長(zhǎng)約為基牙面近遠(yuǎn)中徑的多少（）

A.1/2
B.1/3
C.4/5
D.1/5
E.2/3

3.單項(xiàng)選擇題 具有阻止義齒向脫位作用的部分是（）

A.支托
B.連接體
C.卡環(huán)臂
D.卡環(huán)體
E.以上說(shuō)法都不正確

4.單項(xiàng)選擇題在實(shí)際工作中，鑄造的最佳溫度應(yīng)在原熔化溫度的基礎(chǔ)上增加（）

A.50～150℃
B.200～300℃
C.400～500℃
D.不增加
E.增加越多越好

5.單項(xiàng)選擇題采用正硅酸乙酯包埋料包埋，其最佳粉液比為（）

A.3：1
B.1：1
C.4：1
D.3：2
E.5：1

6.單項(xiàng)選擇題采用正硅酸乙酯包埋料包埋，其內(nèi)層每次置入氨氣（含量﹥36%）干燥箱內(nèi)干燥處理的時(shí)間不得少于（）

A.10min
B.5min
C.15min
D.3min
E.時(shí)間越短越好

7.單項(xiàng)選擇題配制石膏、石英系外包埋料，石膏與石英砂的最佳比例是（）

A.1：1
B.4：1
C.1：2
D.1：3
E.1：4

8.單項(xiàng)選擇題當(dāng)焙燒鑄圈的溫度升至900℃時(shí)，需維持（）

A.10min
B.5min
C.15～20min
D.1h
E.2h

9.單項(xiàng)選擇題烘烤鑄圈時(shí)升溫不能過(guò)快，從室溫升至400℃，升溫時(shí)間不得低于（）

A.20min
B.30min
C.10min
D.60min
E.2h

10.單項(xiàng)選擇題當(dāng)烘烤鑄圈的溫度升至400℃時(shí)，尚需維持（）

A.10min
B.30min
C.5min
D.1h
E.2h