采用冠內(nèi)附著體的基牙牙冠齦徑高度應(yīng)().
A.>3mm
B.>4mm
C.>5mm
D.>6mm
E.>7mm
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中,附著體預(yù)成品,通過包埋、鑄造、研磨等工序,會影響附著體陰性結(jié)構(gòu)和陽性結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位
A.0.5mm
B.1mm
C.1.5mm
D.2mm
E.緊密接觸,無間隙
A.2mm
B.3mm
C.4mm
D.5mm
E.6mm
A.3~8mm
B.3~6mm
C.3~5mm
D.3~4mm
E.齊齦或齦上3mm以內(nèi)
A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.以金屬為鄰面邊緣
C.基牙數(shù)目越多,基托暴露可越多
D.暴露牙周基托可消除基托對邊緣齦的機械刺激
E.暴露牙周基托增加了基托周圍的菌斑堆積,需加強清潔
A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.無牙區(qū)基托設(shè)計與傳統(tǒng)總義齒相近
C.可設(shè)計暴露牙周的基托
D.根帽和基托要作為一個形態(tài)和功能單位考慮
E.基托與基牙應(yīng)緊密接觸,使基牙能分散咬合力
A.牙槽嵴頂上方
B.牙槽嵴頂唇側(cè)
C.牙槽嵴頂頰側(cè)
D.不與牙槽嵴頂保持平行關(guān)系
E.緊貼牙槽嵴黏膜
A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸
A.4mm
B.6mm
C.8mm
D.10mm
E.以上均不是
A.人工牙
B.基托
C.卡環(huán)
D.橋體
E.附著體
最新試題
上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)黏膜壓痛點的處理方法是().
患者修復(fù)前不需考慮().
對上述患者以下哪些步驟不是提高義齒固位力的有效方法().
患牙首選治療方案是().
基牙預(yù)備時應(yīng)制備出().
如果用RPA卡環(huán)組代替RPI卡環(huán)組,則圓環(huán)形卡環(huán)臂的堅硬部分應(yīng)位于基牙的().
該患者擬診斷為().
取本例患者下頜模型時應(yīng)采用何種印模方法().
正確的處理方法是().
此時應(yīng)采取的措施是().