單項(xiàng)選擇題使瓷體熔化時(shí)不受氧化、不產(chǎn)生氣泡、排出爐內(nèi)異常氣體的裝置是（）。

A.爐膛
B.真空裝置
C.產(chǎn)熱及調(diào)溫裝置
D.顯示窗
E.鍵盤


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1.單項(xiàng)選擇題使?fàn)t內(nèi)升溫和保持恒溫的裝置是（）。

A.爐膛
B.真空裝置
C.產(chǎn)熱及調(diào)溫裝置
D.顯示窗
E.鍵盤

2.單項(xiàng)選擇題真空烤瓷爐對(duì)其溫度參數(shù)和時(shí)間參數(shù)進(jìn)行精密的控制。在使用中要求操作人員按嚴(yán)格的程序進(jìn)行操作。真空烤瓷爐的溫度參數(shù)和時(shí)間參數(shù)主要包括（）。

A.預(yù)熱溫度，烤瓷溫度，預(yù)熱時(shí)間，烤瓷時(shí)間，最終溫度持續(xù)時(shí)間
B.預(yù)熱溫度，烤瓷溫度，預(yù)熱時(shí)間，烤瓷時(shí)間，最終溫度持續(xù)時(shí)間，真空烤瓷時(shí)間
C.現(xiàn)時(shí)溫度，烤瓷溫度，預(yù)熱時(shí)間，烤瓷時(shí)間，最終溫度持續(xù)時(shí)間，真空烤瓷時(shí)間
D.現(xiàn)時(shí)溫度，最終溫度，預(yù)熱時(shí)間，升溫時(shí)間，最終溫度持續(xù)時(shí)間，真空烤瓷時(shí)間
E.現(xiàn)時(shí)溫度，最終溫度，預(yù)熱時(shí)間，烤瓷時(shí)間，最終溫度持續(xù)時(shí)間，真空烤瓷時(shí)間

7.單項(xiàng)選擇題高頻離心鑄造機(jī)操作時(shí)應(yīng)注意使用設(shè)備的環(huán)境溫度為（）。

A.0～2℃
B.3～4℃
C.36～40℃
D.5～35℃
E.40℃以上