A.腭護(hù)板可以戴到正式義頜完成時
B.腭護(hù)板戴入后,一般不需要修改
C.腭護(hù)板戴入后,白天、夜間均要戴
D.腭護(hù)板可在外科手術(shù)后6~10天制作
E.腭護(hù)板可以周期性添加暫襯材料
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A.瓷貼面
B.塑料全冠
C.烤瓷熔附金屬全冠
D.全瓷冠
E.3/4冠
A.越薄越好
B.越厚越好
C.0.1mm
D.0.2mm
E.0.5mm
A.近缺隙側(cè)大,遠(yuǎn)缺隙側(cè)小
B.近缺隙側(cè)小,遠(yuǎn)缺隙側(cè)大
C.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都小
D.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都大
E.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)相等
A.最理想的材料是高度拋光的金屬
B.金瓷結(jié)合線應(yīng)設(shè)置于牙槽嵴頂位置
C.與缺牙區(qū)牙槽嵴舌側(cè)接觸面積應(yīng)盡量減小
D.與缺牙區(qū)牙槽嵴接觸面積應(yīng)盡量增大
E.與缺牙區(qū)牙槽嵴應(yīng)形成緊壓接觸
A.雙臂卡環(huán)
B.單臂卡環(huán)
C.圈形卡環(huán)
D.間隙卡環(huán)
E.三臂卡環(huán)
A.0.5mm
B.1mm
C.1.5mm
D.2mm
E.緊密接觸,無間隙
A.連接體的截面積應(yīng)不低于4mm2
B.連接體齦方的鄰間隙應(yīng)留足空問,且連接體下部呈U形凹面
C.在不影響美觀的前提下,可增加連接體的齦牙合向厚度
D.連接體斷面形態(tài)呈圓長方形,有利于抗力
E.后牙固定橋的連接體位于中1/3偏牙合方
A.磨改外形
B.試冠
C.噴砂
D.預(yù)氧化
E.超聲清洗
A.功能印模
B.解剖式印模
C.加壓印模
D.減壓印模
E.均勻性印模
A.咬硬物
B.鑄造修復(fù)體表面砂眼
C.牙合面牙體預(yù)備量不足
D.夜磨牙癥
E.以上都是
最新試題
牙體缺損修復(fù)時,如原有根尖周病未徹底治療,修復(fù)后會出現(xiàn)()
牙體缺損修復(fù)時如未排除早接觸,術(shù)后可出現(xiàn)()。
全口義齒基托邊緣與唇頰溝、舌溝、上頜后堤區(qū)及下頜磨牙后墊處相接觸的區(qū)域?qū)儆冢ǎ?/p>
牙體切割最少的肩臺()。
牙體缺損修復(fù)時,如修復(fù)體齦緣過長,會造成()
牙體缺損修復(fù)時如鄰接關(guān)系恢復(fù)不好會造成()。
牙體缺損修復(fù)時如粘固劑過稀會引起()。
全口義齒排牙時前牙覆牙合過深,而Spee曲線曲度過平,則常會導(dǎo)致()。
牙體缺損修復(fù)時如修復(fù)體不吻合或粘固劑質(zhì)量差修復(fù)后可出現(xiàn)()。
屬于TMD致病因素里咬合因素的是()