單項(xiàng)選擇題遠(yuǎn)中游離端缺失的可摘局部義齒，基托要求（）。

A.基托蠟型適當(dāng)減小
B.基托蠟型適當(dāng)加大
C.不需要制作唇側(cè)基托
D.需要制作唇側(cè)基托
E.基托蠟型適當(dāng)加厚


您可能感興趣的試卷

你可能感興趣的試題

1.單項(xiàng)選擇題RP1卡環(huán)組成包括（）。

A.近中牙合支托
B.遠(yuǎn)中牙合支托
C.遠(yuǎn)中鄰面板
D.桿式卡環(huán)組
E.A+C+D

2.單項(xiàng)選擇題下列不是造成鑄件不完整原因的是（）。

A.鑄道直徑太細(xì)
B.鑄道太長
C.鑄圈溫度過低
D.投入金屬量不足
E.沒有儲庫

4.單項(xiàng)選擇題下唇線至牙合平面的距離約為下中切牙長度（）。

A.全長
B.1/3
C.1/2
D.2/3
E.無關(guān)

5.單項(xiàng)選擇題制作冠樁核上部分時(shí)，常用下列哪種分離劑？（）

A.藻酸鹽分離劑
B.液狀石蠟
C.凡士林
D.護(hù)膚品
E.熔模用分離劑

6.單項(xiàng)選擇題下列哪項(xiàng)是熱凝塑料填塞的最佳時(shí)機(jī)？（）

A.濕砂期
B.稀糊期
C.黏絲期
D.面團(tuán)期
E.橡膠期

7.單項(xiàng)選擇題一患者上頜局部義齒修復(fù)。義齒初戴時(shí)，發(fā)現(xiàn)上腭后部彎制的腭桿離開腭黏膜2mm，處理方法是（）。

A.取下腭桿
B.腭桿組織面緩沖
C.腭桿組織面加自凝樹脂重襯
D.不做任何處理
E.取下腭桿后，戴義齒取印模，在模型上重新加腭桿

8.單項(xiàng)選擇題PFM修復(fù)體是由下列哪一項(xiàng)在真空爐內(nèi)燒結(jié)而成的修復(fù)體？（）

A.高熔瓷粉與鎳鉻合金
B.中熔瓷粉與烤瓷合金
C.低熔瓷粉與中熔合金
D.低熔瓷粉與烤瓷合金
E.低熔瓷粉與金合金

9.單項(xiàng)選擇題關(guān)于PFM橋橋體的設(shè)計(jì)，哪項(xiàng)正確？（）

A.應(yīng)該盡量選擇鞍基式橋體設(shè)計(jì)
B.如果缺牙區(qū)牙槽嵴吸收嚴(yán)重，則應(yīng)該盡量選擇懸空式橋體
C.金-瓷銜接線應(yīng)該設(shè)計(jì)在黏膜接觸區(qū)
D.由于金屬可以高度拋光，故橋體與黏膜接觸部分應(yīng)盡量用金屬
E.橋體應(yīng)增加頰舌徑

10.單項(xiàng)選擇題全口義齒上頜頰尖與下頜牙早接觸，此時(shí)應(yīng)調(diào)整（）。

A.上頜頰尖
B.上頜舌尖
C.下頜頰尖頰斜面
D.下頜舌尖舌斜面
E.下頜中央窩和邊緣嵴