A.上頜中切牙近中切角與兩側(cè)上頜第二磨牙遠(yuǎn)頰尖構(gòu)成的假想平面
B.上頜中切牙近中切角與兩側(cè)上頜第二磨牙遠(yuǎn)舌尖構(gòu)成的假想平面
C.上頜中切牙近中切角與兩側(cè)上頜第一磨牙頰尖構(gòu)成的假想平面
D.上頜中切牙近中切角與兩側(cè)上頜第一磨牙近舌尖構(gòu)成的假想平面
E.以上全不是
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A.桿式卡環(huán)
B.環(huán)形卡環(huán)
C.應(yīng)力中斷式卡環(huán)
D.聯(lián)合卡環(huán)
E.RPI卡環(huán)
A.自凝樹脂
B.光固化樹脂
C.樹脂蠟
D.硅橡膠
E.鑄造蠟
A.單臂卡環(huán)
B.雙臂卡環(huán)
C.間隙卡環(huán)
D.上返卡環(huán)
E.下返卡環(huán)
A.調(diào)好的石膏從印模的高處注入流向低處
B.一般上頜從腭側(cè)灌入,下頜從舌側(cè)灌入
C.灌入時,應(yīng)大量灌進(jìn)去,以防空氣排不出而形成氣泡
D.此過程最好使用振蕩器
E.對于細(xì)長而傾斜的牙印模,可在相應(yīng)的部位加入竹簽以防石膏牙折斷
A.靠近底層冠的切端
B.靠近底層冠的齦端
C.靠近唇頰側(cè)
D.靠近舌側(cè)
E.以上均不正確
A.體部
B.基樁(基臺)
C.小連接體
D.愈合帽
E.中央螺栓
A.近中舌尖接觸
B.遠(yuǎn)中舌尖離開1.0mm
C.近中頰尖接觸
D.遠(yuǎn)中頰尖離開1.5mm
E.近中頰尖離開1.0mm
A.無就位道問題,即使種植體植入方向相差很大,也不影響修復(fù)體的戴入
B.對種植體產(chǎn)生的扭力很小
C.占據(jù)的修復(fù)空間較小
D.臨床和技工操作技術(shù)較簡單
E.以上均是
A.出現(xiàn)“紅色”人工牙
B.高牙合
C.塑料中有氣泡
D.變形
E.低牙合
A.金屬表面不潔物質(zhì)的污染
B.金屬表面有害元素的污染
C.增加修復(fù)體的烘烤次數(shù)
D.基底冠表面噴砂處理不當(dāng)
E.金-瓷結(jié)合面除氣預(yù)氧化不正確
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