磨牙關(guān)系中性
，前牙擁擠。（）
A.安氏Ⅰ類(lèi)
B.安氏Ⅱ類(lèi)，Ⅰ分類(lèi)
C.安氏Ⅱ類(lèi)，Ⅱ分類(lèi)
D.安氏Ⅲ類(lèi)
E.安氏Ⅲ類(lèi)，亞類(lèi)
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下牙弓及下頜體處于近中位置，前牙反
。（）
A.安氏Ⅰ類(lèi)
B.安氏Ⅱ類(lèi)，Ⅰ分類(lèi)
C.安氏Ⅱ類(lèi)，Ⅱ分類(lèi)
D.安氏Ⅲ類(lèi)
E.安氏Ⅲ類(lèi)，亞類(lèi)
實(shí)現(xiàn)前伸
平衡最有效的方法是（）。
A.調(diào)整補(bǔ)償曲線(xiàn)曲度
B.調(diào)整橫曲線(xiàn)曲度
C.調(diào)整牙尖斜度
D.調(diào)整切導(dǎo)斜度
E.調(diào)整髁導(dǎo)斜度
實(shí)現(xiàn)側(cè)
運(yùn)動(dòng)的平衡，最有效的方法是（）。
A.調(diào)整補(bǔ)償曲線(xiàn)曲度
B.調(diào)整橫曲線(xiàn)曲度
C.調(diào)整牙尖斜度
D.調(diào)整切導(dǎo)斜度
E.調(diào)整髁導(dǎo)斜度
A.RPA
B.RII
C.正型卡環(huán)
D.箭頭卡環(huán)
E.對(duì)半卡環(huán)
A.RPA
B.RII
C.正型卡環(huán)
D.箭頭卡環(huán)
E.對(duì)半卡環(huán)
在灌注模型時(shí)，先加水與硬質(zhì)石膏調(diào)和，灌注印模的組織面；稍后調(diào)和熟石膏灌注其他部分。發(fā)現(xiàn)熟石膏結(jié)固太慢，以后調(diào)和熟石膏時(shí)在水中加入了少量白色晶體。
熟石膏的理論混水率為0.186，通常在實(shí)際使用人造石時(shí)的混水率為（）。A.0.186
B.0.3
C.0.22
D.0.6
E.0.5
A.模型美觀(guān)
B.提高模型強(qiáng)度和降低材料成本
C.防止產(chǎn)生體積膨脹
D.提高灌注模型的精確度
E.防止產(chǎn)生氣泡
患者，女，53歲，
缺失，醫(yī)師設(shè)計(jì)可摘局部義齒鑄造支架修復(fù)，醫(yī)師基預(yù)、取模、灌注工作模型。
A.工作模型浸水
B.測(cè)繪導(dǎo)線(xiàn)
C.繪畫(huà)支架框圖
D.填補(bǔ)倒凹
E.網(wǎng)狀連接體區(qū)的襯墊
患者，女，53歲，缺失，醫(yī)師設(shè)計(jì)可摘局部義齒鑄造支架修復(fù)，醫(yī)師基預(yù)、取模、灌注工作模型。
A.增加瓊脂印模的浸潤(rùn)性
B.補(bǔ)充瓊脂的材料所需水分
C.防止瓊脂印模材冷卻過(guò)快
D.將工作模型中的空氣完全排除
E.便于脫出工作模型
患者，男，
缺失，余留牙正常，Kennedy三類(lèi)牙列缺損修復(fù)，基牙，兩側(cè)缺牙區(qū)用舌桿連接。
A.置于下頜舌隆突部位
B.置于舌
側(cè)齦緣與舌系帶之間，距牙齦緣3～4mm
C.在舌面的隆突上
D.位于舌側(cè)牙頸部
E.置于舌側(cè)齦緣，齦乳突區(qū)
最新試題
采用分段灌注模型是為了（）。
基牙為三類(lèi)導(dǎo)線(xiàn)，應(yīng)采用哪類(lèi)卡環(huán)。（）
牙冠唇面的定義是（）。
某患者，6缺失，缺牙間隙小，且齦距離低，選擇的支架類(lèi)型。（）
牙冠遠(yuǎn)中面的定義是（）。
舌連接桿的作用不包括下列哪一項(xiàng)。（）
某患者缺失牙較多，力較大，為增強(qiáng)塑料基托強(qiáng)度，多選擇（）。
技師在對(duì)該工作模型確定就位道后，緊接著的工作是（）。
某患者對(duì)塑料非常敏感，應(yīng)選擇的鑄造支架類(lèi)型。（）
可引起表面粗糙的是（）。