A、1/2~2/3
B、1/3~1/2
C、2/3以上
D、1/2以下
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A、出口閥關(guān)小,電流減小
B、出口閥開大,電流減小
C、出口閥關(guān)小,電流增大
D、無關(guān)
A、原料氣中氫含量低,會影響H2純度
B、須放結(jié)束時,須放壓力過高會影響H2純度
C、須放結(jié)束時,須放壓力過低會影響H2純度
D、原料氣中氫含量高,會影響H2純度
A、吸附壓力
B、原料氣負荷
C、原料氣中H2含量
D、新鮮氣中的H/C
A、正常生產(chǎn),轉(zhuǎn)化現(xiàn)場崗位人員每小時對分離器排水一次
B、吸附壓力應(yīng)在1.60~1.65MPa,達不到此壓力時,應(yīng)相應(yīng)降低裝置的負荷
C、進出口壓差應(yīng)控制在0.01~0.05MPa
D、對吸附壓差的控制,每次降低壓力,應(yīng)分級進行,每次下調(diào)不應(yīng)超過0.1MPa
A、水蒸汽
B、水蒸汽和氫氣或水蒸汽和甲烷
C、甲烷
D、氮氣和甲烷或氮氣和氫氣
A、略低于轉(zhuǎn)化操作溫度
B、轉(zhuǎn)化操作溫度相一致
C、略高于轉(zhuǎn)化操作溫度
D、高于轉(zhuǎn)化操作100℃以上
A、分子篩、活性碳
B、分子篩、活性碳、Al2O3
C、分子篩、氧化鎳
D、Al2O3、CuO、分子篩
A、分子篩
B、活性碳
C、Al2O3
D、氧化鋅
A、轉(zhuǎn)化氣入口溫度
B、吸附壓差
C、產(chǎn)品H2的純度
D、轉(zhuǎn)化氣中H2濃度
A、分子篩
B、活性碳
C、Al2O3
D、NiO
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