A.完全潤(rùn)濕
B.沾濕潤(rùn)濕
C.不潤(rùn)濕
D.浸濕潤(rùn)濕
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A.分子磁矩的矢量和為零
B.磁介質(zhì)對(duì)外不顯示磁性
C.分子磁矩指向各向的概率相等
D.磁矩的矢量和不為零
A.在凹柱面衰減大
B.凸柱面衰減大
C.凹柱面衰減小
D.發(fā)生波形轉(zhuǎn)換
A.磁粉密度大,易沉淀
B.磁粉密度大,懸浮性差
C.磁粉密度小,懸浮性差
D.磁粉密度小,易沉淀
A.倍壓恒直流電路
B.雙管全波整流電路
C.四管橋式整流電路
D.倍壓整流電路
A.工序繁雜
B.工序簡(jiǎn)單
C.檢測(cè)速度慢成本高
D.靈敏度比磁粉檢測(cè)高
A.磁疇磁矩位移
B.磁疇磁矩轉(zhuǎn)動(dòng)
C.疇壁發(fā)生位移
D.磁疇磁矩不動(dòng)
A.探頭的指向性會(huì)改變
B.正對(duì)缺陷檢測(cè)缺陷回波高
C.缺陷最高回波在探頭軸線上
D.正對(duì)缺陷檢測(cè)缺陷回波低
A.辦理手續(xù)
B.保養(yǎng)設(shè)備
C.檢定合格
D.貼上合格標(biāo)識(shí)
A.以磁場(chǎng)為媒介
B.磁光效應(yīng)屬于此技術(shù)范疇
C.被測(cè)物理量轉(zhuǎn)換為可測(cè)量磁場(chǎng)信號(hào)
D.磁場(chǎng)電效應(yīng)不屬于此技術(shù)范疇
A.位置
B.性質(zhì)
C.形狀
D.取向
最新試題
Z 超聲波檢測(cè)鑄件時(shí)可作為缺陷記錄的是()。
探頭主聲束()將會(huì)影響對(duì)缺陷的定位和判別。
阻止?jié)B透液滲入及滲出表面開(kāi)口缺陷的固體污染物有()。
常規(guī)的縱波聲場(chǎng)或橫波聲場(chǎng),聲速是以一定的角度擴(kuò)散出去的,所以有()。
單晶體金屬特點(diǎn)有()。
人的眼睛在強(qiáng)光下,()。
滲透檢測(cè)工藝對(duì)顯像操作的要求有()。
與一次射線相比,散射線的()。
表面波檢測(cè)中,利用表面波檢測(cè)()效果好。
非熒光磁粉檢測(cè)時(shí),可見(jiàn)光照度不小于1000lx,并應(yīng)避免()。