A.<500
B.120-500
C.500-990
D.>1000
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A.浮選
B.濃縮浮選流程
C.直接浮選流程
D.半直接浮選
A.藥劑消耗量
B.充氣量
C.入料濃度
D.給礦量
A.泡沫層發(fā)死,充氣作用明顯降低
B.一、二室翻花嚴(yán)重
C.后兩室翻花嚴(yán)重
D.泡沫層越往后室越厚
A.泡沫產(chǎn)品出量少,泡沫發(fā)黏
B.泡沫產(chǎn)脫水性能不好
C.從前室開(kāi)始泡沫層逐漸緊密、流動(dòng)性低
D.浮選煤漿液面升高,若不調(diào)節(jié)閘門(mén),刮泡帶水
A.<200目
B.160-200目
C.120-160目
D.48-100目
A.芳烴>不飽和烴>環(huán)烷烴>正構(gòu)烷烴
B.芳烴>環(huán)烷烴>正構(gòu)烷烴>不飽和烴
C.芳烴>正構(gòu)烷烴>不飽和烴>環(huán)烷烴
D.不飽和烴>芳烴>環(huán)烷烴>正構(gòu)烷烴
A.線形
B.正比
C.反比
D.沒(méi)有
A.氣泡礦化
B.礦漿充氣
C.礦漿循環(huán)
D.刮泡
A.增大
B.減小
C.先增大再減小
D.先減小后增大
A.增大
B.減小
C.先增大再減小
D.先減小后增大
最新試題
常用的磁力選礦設(shè)備有()等。
礦漿濃度25%時(shí),下列說(shuō)法是錯(cuò)誤的()。
在浮選藥劑中,屬于兩性捕吸劑的是()。
浮選體系包括()。
礦漿流程圖中應(yīng)標(biāo)明的參數(shù)有()。
下列屬于圓盤(pán)真空過(guò)濾機(jī)優(yōu)點(diǎn)的是()。
磨礦機(jī)的構(gòu)造有()傳動(dòng)部分、潤(rùn)滑系統(tǒng)、襯板部分、磨礦介質(zhì)等部分。
適應(yīng)于電選的一些礦石有()。
對(duì)礦漿流時(shí)行取樣,應(yīng)()。
旋流器“拉干”、“拉稀”時(shí),其溢流()。