A、施加顯象劑的時(shí)間
B、施加顯象劑到開始觀察的時(shí)間
C、從顯象劑干燥到開始觀察的時(shí)間
D、施加顯象劑到觀察結(jié)束的時(shí)間
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、10℃
B、20℃
C、30℃
D、40℃
A、2000/2Л[A/m]
B、1500/2Л[A/m]
C、1000/2Л[A/m]
D、500/2Л[A/m]
A、磁場(chǎng)的方向
B、磁場(chǎng)的定量大小
C、磁粉的磁性
D、磁粉的粒度
A、用榔頭敲擊
B、將零件放入直流磁化線圈中通電,并使電流逐漸降低
C、在退磁線圈中放30秒鐘
D、將退磁交流電調(diào)節(jié)到比原來磁化電流高的安培值,然后使工件從線圈中緩緩?fù)ㄟ^
A、250~350A
B、500~600A
C、700~900A
D、400~500A
A、1~3秒
B、5秒
C、1秒
D、0.5~2秒
A、0.1-0.5ml
B、1-5ml
C、1.2-2.4ml
D、以上都可以
A、0.5cst
B、50cst
C、5cst
D、5g
A、小于7克
B、大于7克
C、14克
D、根據(jù)經(jīng)驗(yàn)
A、至少預(yù)熱五分鐘
B、在暗室中使用
C、至少為970Lx
D、以上都是
最新試題
常用的顯像方法包括()。
滲透檢測(cè)通常在()前進(jìn)行,表面處理后局部加工時(shí)需再次檢測(cè)。
按照受檢材料的相容性,可將滲透劑分為()滲透劑。
影響定影的因素主要有()。
確定滲透劑是否具有高的滲透能力的主要參數(shù)有()。
各種電氣設(shè)備都有各自的保護(hù)系統(tǒng),X 射線機(jī)的保護(hù)系統(tǒng)主要有()。
屬于γ射線探傷設(shè)備的操作故障有()。
板波的類型有()。
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問題有()。
下列關(guān)于無限大固體介質(zhì)中聲速的說法錯(cuò)誤的有()。