A.0.5
B.–0.5
C.1
D.–1
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A.反射定律
B.透射定律
C.折射定律
D.以上都不對(duì)
A.波形轉(zhuǎn)換
B.反射橫波
C.聲壓增大
D.以上不都對(duì)
A.出現(xiàn)在第一次底波之前
B.出現(xiàn)在第一次底波之后
C.沒有缺陷回波,只有底波降低或消失
D.以上都有可能
A.聲束變窄
B.反射橫波
C.聲壓增大
D.以上不都對(duì)
A.1.67N以外進(jìn)行
B.N以外進(jìn)行
C.2N以外進(jìn)行
D.3N以外進(jìn)行
A.直線軌跡
B.三角形軌跡
C.橢圓軌跡
D.以上都不對(duì)
A.橫向和縱向兩種振動(dòng)的合成
B.橫向振動(dòng)
C.縱向振動(dòng)
D.A、B和C
A.橫波
B.瑞利波
C.蘭姆波
D.A、B和C
A、一個(gè)波長(zhǎng)
B、一個(gè)半波長(zhǎng)
C、兩個(gè)波長(zhǎng)
D、兩個(gè)半波長(zhǎng)
A、表面波
B、電磁波
C、橫波
D、縱波
最新試題
將彎曲液面對(duì)液體的壓強(qiáng)與平面液面對(duì)液體的壓強(qiáng)相比,任何液面膜對(duì)液體施以附加壓強(qiáng),下面描述正確的是()。
無(wú)損檢測(cè)設(shè)備、材料采購(gòu)驗(yàn)收內(nèi)容包括()驗(yàn)收。
潤(rùn)濕是受檢表面附著的氣體被滲透液體所取代的現(xiàn)象,發(fā)生潤(rùn)濕時(shí)()。
冷裂紋常見的有()。
對(duì)漏磁檢測(cè)原理描述正確的有()。
滲透檢測(cè)工藝對(duì)顯像操作的要求有()。
Z 超聲波檢測(cè)鑄件時(shí)可作為缺陷記錄的是()。
表面波檢測(cè)中,利用表面波檢測(cè)()效果好。
非熒光磁粉檢測(cè)時(shí),可見光照度不小于1000lx,并應(yīng)避免()。
聚焦聲源發(fā)射的聲場(chǎng)特點(diǎn)是()。