A.面下1/3變短
B.雙頰內(nèi)陷
C.舌體增大
D.黏膜變薄變平和敏感性增強(qiáng)
E.口角上翹
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A.咬合面
B.磨光面
C.組織面
D.A+B+C
E.A+B
A.下半口義齒后緣應(yīng)蓋過磨牙后墊1/3~1/2
B.排牙時,下頜第一磨牙的面應(yīng)與磨牙后墊的1/2等高
C.排下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣
D.磨牙后墊與下頜尖牙的近中面形成一個三角形,一般情況下,下頜后牙的頰尖應(yīng)位于此三角形內(nèi)
E.磨牙后墊是邊緣封閉區(qū)
A.舌側(cè)翼緣區(qū)后部
B.頰側(cè)翼緣區(qū)
C.遠(yuǎn)中頰角區(qū)
D.下頜隆突區(qū)
E.下頜舌骨嵴區(qū)
A.缺牙時間久,面頰向內(nèi)凹陷
B.后牙超小
C.上頜結(jié)節(jié)和磨牙后墊部位的基托間隙過小
D.舌體增大
E.垂直距離過低
A.基托與組織面不密合
B.義齒基托過長過厚
C.義齒基托過短過薄
D.系帶區(qū)緩沖過多
E.磨牙后墊區(qū)伸展過長
A.義齒基托過短
B.義基托過長過厚
C.基托與組織面不密合
D.系帶區(qū)緩沖過多
E.磨牙后墊區(qū)伸展過長
A.近中舌尖與平面接觸
B.近中頰尖與平面接觸
C.遠(yuǎn)中舌尖與平面接觸
D.遠(yuǎn)中頰尖與平面接觸
E.以上均不對
A.前脫位
B.后脫位
C.齦方脫位
D.方脫位
E.擺動
A.導(dǎo)線是基牙牙冠外形高點(diǎn)線,隨觀測方向改變而改變
B.導(dǎo)線是基牙牙冠外形高點(diǎn)線,不隨觀測方向改變而改變
C.導(dǎo)線是觀測器分析桿圍繞基牙牙冠軸面最突點(diǎn)所畫出的連線,隨觀測方向改變而改變
D.導(dǎo)線是觀測器分析桿沿牙冠軸面最突點(diǎn)所畫出的連線,不隨觀測方向改變而改變
E.以上全不正確
A.常用于遠(yuǎn)中游離端義齒
B.基牙下存在有軟組織倒凹
C.口腔前庭深度不足
D.卡環(huán)臂的堅(jiān)硬部分位于觀測線上方
E.卡環(huán)臂堅(jiān)硬部分與觀測線上緣接觸
最新試題
上頜結(jié)節(jié)屬于()
屬于根內(nèi)固位體的是()
倒凹集中在左側(cè),義齒應(yīng)()
義齒間隙指的是()
屬于固定義齒冠內(nèi)固位體的是()
可摘局部義齒中關(guān)于卡環(huán)體與卡環(huán)臂的描述中,正確的是()
倒凹區(qū)牙面與基牙長軸之間的角度()
下頜磨牙后墊屬于()
固位力最好的修復(fù)體是()
切牙嵴頂屬于()