A.印模材料易失水,體積收縮,影響模型準(zhǔn)確性
B.印模材料易吸水,體積膨脹,影響模型準(zhǔn)確性
C.石膏失水,體積收縮,影響模型準(zhǔn)確性
D.石膏吸水,體積膨脹,影響模型準(zhǔn)確性
E.石膏凝固時間長
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.6mm
B.8mm
C.10mm
D.15mm
E.以上均不正確
A.將上后牙稍排向腭側(cè)
B.加大后牙覆蓋
C.選用牙尖斜度較小的人工牙
D.磨改上磨牙舌尖的舌斜面和下磨牙頰尖的頰斜面
E.將下后牙稍排向頰側(cè)
A.基牙適合性-鄰接-橋體適合性-咬合-外形
B.基牙適合性橋體適合性-鄰接咬合-外形
C.橋體適合性-基牙適合性-鄰接咬合-外形
D.基牙適合性-橋體適合性-咬合-鄰接-外形
E.橋體適合性-基牙適合性-咬合鄰接-外形
A.鑄道直徑太細
B.鑄道太長
C.鑄圈溫度過低
D.投入金屬量不足
E.沒有儲庫
A.鑄件鑄造不全
B.鑄件粘砂
C.鑄件產(chǎn)生砂眼
D.鑄件表面粗糙
E.鑄件產(chǎn)生冷熱裂
A.附著體的陽性部分應(yīng)彼此平行,保證義齒有共同就位道
B.附著體的陽性部分形成制鎖角,以提高義齒的固位力
C.多個附著體應(yīng)用時,應(yīng)優(yōu)先保證后牙區(qū)的附著體陽性部分和陰性部分接觸,前牙區(qū)后接觸
D.多個附著體應(yīng)用時,應(yīng)優(yōu)先保證前牙區(qū)的附著體陽性部分和陰性部分接觸,后牙區(qū)后接觸
E.附著體陽性部分的頂端應(yīng)緊密接觸,以充分支持上部修復(fù)體
A.將模型用清水浸透并保持淋濕狀態(tài)
B.模型用清水浸透后取出用毛巾擦干
C.模型不要浸泡
D.模型浸泡時間越長越好
E.模型越干燥越好
A.下頜尖牙區(qū)
B.下頜前磨牙區(qū)舌側(cè)
C.下頜磨牙區(qū)頰側(cè)
D.下頜磨牙區(qū)舌側(cè)
E.下頜前磨牙區(qū)頰側(cè)
A.前后位置
B.左右位置
C.上下位置
D.接觸點位置
E.前牙傾斜度
A.膏環(huán)臂尖放置在基牙的非倒凹區(qū),卡環(huán)體放置在基牙的倒凹區(qū)
B.卡環(huán)臂尖和卡環(huán)體放置在基牙的倒凹區(qū)
C.卡環(huán)臂尖和卡環(huán)體放置在基牙的非倒凹區(qū)
D.卡環(huán)臂尖放置在基牙的倒凹區(qū),卡環(huán)體放置在基牙的非倒凹區(qū)
E.卡環(huán)臂和卡環(huán)體均放在基牙的觀測線上
最新試題
上頜后堤溝在腭中縫兩側(cè)中間區(qū)域的最寬處可達()。
烤瓷牙燒烤后表面光滑度好,但出現(xiàn)凹凸不平的顆粒狀或坑洼狀表面,最可能的原因是()
上頜后堤溝的寬度在腭中縫后緣處寬約()。
基托應(yīng)充分延伸的區(qū)域是()
緊靠缺隙有輕度松動的基牙上應(yīng)設(shè)計()。
右側(cè)后牙全部缺失,左側(cè)余留牙舌側(cè)倒凹大,觀測模型時應(yīng)()。
基托在以下哪個區(qū)域適當(dāng)伸展以利固位?()。
后牙排列時,要有適合的縱牙合曲線和橫牙合曲線是為了()。
在遠中錯牙合關(guān)系之外又有上頜切牙的唇向傾斜,Angle分類為()。
某患者,戴固定義齒1周后,發(fā)現(xiàn)食物嵌塞,其原因是()。