A.0.2~0.3mm
B.0.4~0.6mm
C.0.9~1.0mm
D.0.7~0.8mm
E.2.0~2.5mm
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A.0.2~0.3mm
B.0.4~0.6mm
C.0.9~1.0mm
D.0.7~0.8mm
E.2.0~2.5mm
A.2mm
B.10~12mm
C.7mm
D.5mm
E.15mm
A.卡環(huán)
B.鄰面板
C.支架支點(diǎn)
D.大連接體
E.支托
A.二口角線間的距離
B.下頜尖牙遠(yuǎn)中面到磨牙后墊前緣的距離
C.下頜磨牙后墊中1/3的水平位置
D.上唇線至平面的距離
E.下唇線至平面的距離
A.二口角線間的距離
B.下頜尖牙遠(yuǎn)中面到磨牙后墊前緣的距離
C.下頜磨牙后墊中1/3的水平位置
D.上唇線至平面的距離
E.下唇線至平面的距離
A.頸部向近中傾斜
B.長(zhǎng)軸與中線近似平行
C.頸部向遠(yuǎn)中傾斜
D.頸部微向遠(yuǎn)中傾斜
E.長(zhǎng)軸與中線平行
A.頸部向近中傾斜
B.長(zhǎng)軸與中線近似平行
C.頸部向遠(yuǎn)中傾斜
D.頸部微向遠(yuǎn)中傾斜
E.長(zhǎng)軸與中線平行
A.卡環(huán)
B.鄰面板
C.支架支點(diǎn)
D.大連接體
E.支托
A.2mm
B.10~12mm
C.7mm
D.5mm
E.15mm
Boutter認(rèn)為,全口義齒平面后緣高度應(yīng)平齊()。
A.二口角線間的距離
B.下頜尖牙遠(yuǎn)中面到磨牙后墊前緣的距離
C.下頜磨牙后墊中1/3的水平位置
D.上唇線至平面的距離
E.下唇線至平面的距離
最新試題
為了體現(xiàn)患者開(kāi)朗活躍的個(gè)性,排前牙時(shí)應(yīng)采?。ǎ?/p>
如果以金屬底層恢復(fù)缺損,下列各項(xiàng)不是其結(jié)果的是()。
在制作金屬烤瓷全冠的基底冠時(shí),若蠟型厚度均勻一致,容易產(chǎn)生的結(jié)果是()。
上前牙PFM全冠頸緣預(yù)備至少()。
隱形義齒戴入后固位不良,以下因素與之無(wú)關(guān)的是()。
裝盒、去蠟、填膠、熱處理后開(kāi)盒發(fā)現(xiàn)基托中有氣泡,其原因不包括()。
如果用可摘局部義齒修復(fù),排牙時(shí)最好選擇()。
側(cè)方位排牙時(shí),平衡側(cè)接觸工作側(cè)不接觸,應(yīng)()。
位于下頜舌側(cè)的連接桿是()。
充填中可能出現(xiàn)支架移位,可能的原因?yàn)椋ǎ?/p>