A.細(xì)實(shí)線
B.粗實(shí)線
C.虛線
D.點(diǎn)畫線
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A.最高點(diǎn)
B.最低點(diǎn)
C.最左點(diǎn)
D.轉(zhuǎn)向輪廓線上的點(diǎn)
A.平面與平面
B.平面與回轉(zhuǎn)體
C.立體與立體
D.回轉(zhuǎn)體與回轉(zhuǎn)體
A.30°
B.45°
C.60°
D.75°
A.素線法
B.棱線法
C.棱面法
D.輔助平面法
A.球體上下分界線
B.球體左右分界線
C.球體前后分界線
D.球體中心位置
A.六棱柱
B.棱錐
C.圓錐
D.圓球
A.側(cè)面投影反映實(shí)形
B.水平面投影具有類似性
C.水平面投影具有積聚性
D.正面投影具有積聚性
A.水平投影反映實(shí)形
B.正面投影具有積聚性
C.側(cè)面投影具有類似性
D.水平投影具有類似性
A.a’b’=ABtanα
B.a’’b’’=ABcosγ
C.a’b’=ABcosβ
D.ab=ABcosα
A.b’(a’)
B.a’’(b’’)
C.a’(b’)
D.b’’(a’’)
最新試題
化工設(shè)備圖中的填料、液位計(jì)、螺紋緊固件、多孔結(jié)構(gòu)通常采用()表達(dá)。
標(biāo)注剖切位置時(shí),采用()短劃來表示。
繪制化工設(shè)備圖應(yīng)遵循的基本原則有()。
直線AB為一般位置直線,則()。
全剖視圖可以采用()剖切面進(jìn)行剖切。
有回轉(zhuǎn)軸的機(jī)件適合采用()進(jìn)行剖切。
相貫線的投影為非圓曲線時(shí),其特殊點(diǎn)可以是()。
塔設(shè)備通常較高,其內(nèi)件結(jié)構(gòu)和排布具有一定的規(guī)律性,因此常采用()等表達(dá)方法。
化工設(shè)備通常由主視圖和俯(左)視圖兩個(gè)基本視圖表達(dá),主視圖一般采用()。
當(dāng)封頭直徑小于等于2000mm時(shí),直邊高度?。ǎ﹎m。