A.體系總質(zhì)量不變
B.體系中某一組分的質(zhì)量不變
C.體系總摩爾數(shù)不變
D.體系中某一組分的摩爾數(shù)不變
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A.“評定費用”最低
B.綜合評價費低
C.標(biāo)價低于標(biāo)底
D.標(biāo)價接近標(biāo)底
A.專有技術(shù)費用
B.研究試驗費
C.土地征用費
D.土地使用權(quán)出讓金
A.是經(jīng)濟效果最好的回流比
B.是保證精餾操作所需塔板數(shù)最少的回流比
C.是保證精餾分離效率最高的回流比
D.是需要無窮多塔板才能達到分離要求的回流比
A.該方法的理論依據(jù)就是工藝流程的狀態(tài)參數(shù)(如溫度、壓力、流量等),一旦與設(shè)計規(guī)定的條件發(fā)生偏離,就會發(fā)生問題或出現(xiàn)危險
B.用這種方法主要是有利于發(fā)揮操作人員的作用
C.危險性可操作研究的基本過程是以關(guān)鍵詞為引導(dǎo),找出過程中工藝狀態(tài)的變化(即偏差),然后再繼續(xù)分析造成偏差的原因后果及可以采取的對策
D.用這種方法對生產(chǎn)是連續(xù)過程的分析對象是管道,而對間歇生產(chǎn)過程來說,其分析對象是設(shè)備
A.直線
B.職能
C.矩陣
D.事業(yè)部
A.36kPa
B.100kPa
C.480mmHg
D.46kPa
A.增大
B.不變
C.減小
D.不確定
A.鹵代烷(1211或1202)
B.泡沫滅火劑
C.酸堿滅火劑
D.特殊液體(7150)
A.在雷諾數(shù)和普朗特數(shù)相同的前提下,液體的給熱系數(shù)大于氣體
B.給熱系數(shù)隨溫度的升高而增大
C.給熱系數(shù)隨雷諾數(shù)的增大而增大
D.給熱系數(shù)與管壁粗糙度無關(guān)
A.4個量均降低
B.H、Q、η減小,N增大
C.4個量均增大
D.H、Q、η增大,N減小
最新試題
全剖視圖可以采用()剖切面進行剖切。
對于高大的塔設(shè)備,其裝配圖可采用()以降低總體高度。
點A、B為W面上的重影點,且點A在點B之右,其在W面上可寫作()。
側(cè)平面的投影特性是()。
第三角畫法的三個視圖分別是()。
設(shè)備設(shè)計條件單主要包括()。
相貫線的投影為非圓曲線時,其特殊點可以是()。
標(biāo)注剖切位置時,采用()短劃來表示。
化工設(shè)備圖中的填料、液位計、螺紋緊固件、多孔結(jié)構(gòu)通常采用()表達。
如果一個機件的三個視圖均采用剖視圖表達,則各個視圖中的剖面線應(yīng)()。