A.防止磁粉冷凝
B.防止設(shè)備腐蝕
C.保證工件潤(rùn)濕
D.減少水的需要量
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A.安培
B.安匝
C.瓦特
D.歐姆
A.膠帶紙可以遮蓋試片刻槽部位
B.試片刻槽面應(yīng)與零部件表面密貼
C.“+”刻槽中應(yīng)有一條刻槽與被探測(cè)零部件的中心線平行
D.用膠帶沿試片四周呈“井”字形將試片粘貼牢固、平整
A.3.14倍
B.1.57倍
C.2倍
D.1.41倍
A.干法探傷
B.濕法探傷
C.渦流探傷
D.以上都不對(duì)
A.縱向磁場(chǎng)
B.環(huán)形磁場(chǎng)
C.交變磁場(chǎng)
D.螺旋形磁場(chǎng)
A.適應(yīng)各種工件的磁特性
B.適應(yīng)各種磁化電流要求
C.適應(yīng)各種顏色工件表面,以提高對(duì)比度
D.適應(yīng)各種工件的磁化規(guī)范
A.周向磁化
B.縱向磁化
C.一樣有害
D.以上都對(duì)
A.0.2~0.5s
B.0.5~1.0s
C.0.5~0.7s
D.0.5~1.2s
A.1~9
B.1~5
C.10~15
D.8~15
A.1:1~1:3
B.2:1~1:3
C.1:3~1:3
D.1:1~1:8
最新試題
調(diào)節(jié)掃描速度時(shí),應(yīng)使()同時(shí)對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的水平刻度值。
光電效應(yīng)發(fā)生的機(jī)率隨什么變化()
當(dāng)射線穿透任何一物體時(shí),部分被物體吸收,部分則穿透該物體,還有一部分則被構(gòu)成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射,此散射為()
在筒身外壁做曲面周向探傷時(shí)(r、R為簡(jiǎn)體的內(nèi)、外徑),斜探頭(β為折射角)的臨界角應(yīng)滿足()
康普頓效應(yīng)對(duì)射線檢測(cè)的影響包括()
一般認(rèn)為表面波探測(cè)的有效深度約為()
某超聲波探頭,壓電晶片的頻率常數(shù)Nt=1500m/s晶片厚度為0.3mm,則該探頭工作頻率為()
對(duì)于平行于檢測(cè)面的缺陷,一般采用()檢測(cè)。
以下哪一種措施不能減小上表面盲區(qū)的影響()
在工作中超聲波檢測(cè)儀屏幕上可能會(huì)出現(xiàn)()等信號(hào)波,需要仔細(xì)判別。