多項(xiàng)選擇題利用曝光因子可以對(duì)（）修正計(jì)算。

A.膠片類型改變
B.黑度改變
C.焦距
D.曝光時(shí)間


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1.多項(xiàng)選擇題局部無(wú)損檢測(cè)的產(chǎn)品，在編寫工藝卡時(shí)按GB150要求必須進(jìn)行100%檢測(cè)的部位是（）。

A.1.5倍開孔直徑圓所包容的接頭
B.先拼板后成形的封頭
C.支座覆蓋的對(duì)接接頭
D.補(bǔ)強(qiáng)圈覆蓋的對(duì)接接頭

2.多項(xiàng)選擇題磁粉檢測(cè)試件時(shí)，試件要滿足（）的條件，經(jīng)合同雙方同意，可以檢測(cè)。

A.打磨后表面粗糙度小于等于25μm
B.打磨后表面粗糙度大于等于25μm
C.有涂層厚度均勻不超過0.05mm
D.有涂層厚度均勻超過0.05mm

3.多項(xiàng)選擇題端角反射不會(huì)出現(xiàn)在（）中。

A.橫波檢測(cè)
B.縱波檢測(cè)
C.表面波檢測(cè)
D.板波檢測(cè)

4.多項(xiàng)選擇題用于熒光磁粉檢測(cè)的紫外線包括（）。

A.短波紫外線
B.中波紫外線
C.黑光
D.長(zhǎng)波紫外線

5.多項(xiàng)選擇題下列屬于閉路磁化的有（）。

A.電磁軛整體磁化
B.交叉磁軛法
C.電磁軛局部磁化
D.永久磁鐵局部磁化

6.多項(xiàng)選擇題在工程上，常用（）表示不同的潤(rùn)濕性能。

A.完全潤(rùn)濕
B.沾濕潤(rùn)濕
C.不潤(rùn)濕
D.浸濕潤(rùn)濕

7.多項(xiàng)選擇題在無(wú)外加磁場(chǎng)時(shí)，磁介質(zhì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

A.分子磁矩的矢量和為零
B.磁介質(zhì)對(duì)外不顯示磁性
C.分子磁矩指向各向的概率相等
D.磁矩的矢量和不為零

8.多項(xiàng)選擇題圓柱曲面會(huì)影響表面波的傳播，柱面曲率與表面波波長(zhǎng)之比較大時(shí)，下列說法正確的是（）。

A.在凹柱面衰減大
B.凸柱面衰減大
C.凹柱面衰減小
D.發(fā)生波形轉(zhuǎn)換

9.多項(xiàng)選擇題磁粉的密度對(duì)檢測(cè)靈敏度有一定的影響，在濕法檢驗(yàn)中，（）。

A.磁粉密度大，易沉淀
B.磁粉密度大，懸浮性差
C.磁粉密度小，懸浮性差
D.磁粉密度小，易沉淀

10.多項(xiàng)選擇題高壓發(fā)生電路的全波整流電路包括（）。

A.倍壓恒直流電路
B.雙管全波整流電路
C.四管橋式整流電路
D.倍壓整流電路