A.衰退
B.電離
C.潛影
D.照射
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A.能夠直接被肉眼觀察到
B.在紅燈下能夠被肉眼觀察到
C.需要經(jīng)過(guò)電信號(hào)轉(zhuǎn)化成圖象
D.以上都不是
A.α
B.β
C.γ
D.A、B和C
A.直接在熒光屏顯示缺陷圖象
B.利用熒光增感屏+X射線膠片曝光
C.再使用X射線膠片曝光
D.以上都不對(duì)
A.點(diǎn)狀斑紋
B.冠狀斑紋
C.樹(shù)枝狀斑紋
D.A、B和C
A、0.25mm
B、0.5mm
C、0.75mm
D、1mm
A.曝光
B.膠片特性
C.非增感型
D.增感型
A.光電效應(yīng)
B.康普頓效應(yīng)
C.電子對(duì)生成效應(yīng)
D.電離效應(yīng)
A.1.02MeV
B.大于1.02MeV
C.1020keV
D.小于1020keV
A.光電效應(yīng)
B.康普頓效應(yīng)
C.湯姆遜效應(yīng)
D.電子對(duì)生成效應(yīng)
A.150eV
B.15MeV
C.1.5MeV
D.0.15MeV
最新試題
對(duì)滲透探傷無(wú)影響的是()。
用雙晶探頭檢測(cè)時(shí),為增加缺陷顯現(xiàn)次數(shù)和反射幅度,檢測(cè)細(xì)長(zhǎng)缺陷應(yīng)使探頭()。
滲透檢測(cè)時(shí),滲入的滲透液有一些被截留在缺陷內(nèi),將受檢部位置于合適的光源(發(fā)光強(qiáng)度足夠)下檢查時(shí),下列說(shuō)法正確的有()。
鑄件熒光滲透檢測(cè)時(shí),()。
無(wú)損檢測(cè)設(shè)備、材料采購(gòu)驗(yàn)收內(nèi)容包括()驗(yàn)收。
大厚度比試件透照特殊技術(shù)中的補(bǔ)償技術(shù)是指利用()填補(bǔ)工件的較薄部分,使透照厚度差減小的方法。
滲透劑檢測(cè)壓力噴灌的存放應(yīng)避免()。
超聲檢測(cè)時(shí)對(duì)工件無(wú)腐蝕的耦合劑是()。
關(guān)于相似相溶經(jīng)驗(yàn)法則的說(shuō)法正確的有()。
關(guān)于波束未擴(kuò)散區(qū),說(shuō)法正確的是()。