A.射線遇到工件向周圍散射
B.試件周圍的射線向試件背后的膠片散射
C.試件中較厚部位的射線向較薄部位散射
D.試件中較薄部位的射線向較厚部位散射
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A.硬磁性材料磁滯回線肥大
B.硬磁性材料磁滯回線狹長(zhǎng)
C.軟磁性材料磁滯回線狹長(zhǎng)
D.軟磁性材料磁滯回線肥大
A.磁場(chǎng)較強(qiáng)的地方,磁感應(yīng)線較疏
B.磁場(chǎng)較強(qiáng)的地方,磁感應(yīng)線較密
C.磁場(chǎng)較弱的地方,磁感應(yīng)線較密
D.磁場(chǎng)較弱的地方,磁感應(yīng)線較疏
A.音響報(bào)警器
B.γ射線監(jiān)測(cè)儀
C.專用曝光計(jì)算尺
D.換源器
A.波源中心振幅小
B.波源中心振幅大
C.聲壓分布均勻
D.邊緣振幅小
A.掃描速度減慢
B.圖像噪聲降低
C.數(shù)字成像快
D.掃描速度提高
A.表面張力用表面張力系數(shù)表示
B.表面張力系數(shù)單位是牛頓/米
C.接觸角≤5°滲透性能好
D.接觸角≥5°滲透性能好
A.周向磁化,后縱向磁化
B.縱向磁化,后周向磁化
C.磁化小直徑,后磁化大直徑
D.磁化大直徑,后磁化小直徑
A.掃描速度
B.分辨力
C.穿透能力
D.靈敏度
A.CSK-ⅠA 試塊
B.CSK-ⅢA 試塊
C.ⅡW 試塊
D.半圓試塊
A.人員應(yīng)具備的資格
B.所需設(shè)備器材
C.檢測(cè)工藝
D.缺陷的質(zhì)量分級(jí)
最新試題
影響定影的因素主要有()。
用半價(jià)層描述的某種能量的射線是指()。
下列關(guān)于照射場(chǎng)的大小對(duì)散射比的影像的說(shuō)法,錯(cuò)誤的有()。
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問(wèn)題有()。
磁性成像可分為磁場(chǎng)成像和磁性成像,對(duì)其描述正確的有()。
筒形或環(huán)形鍛件的鍛造工藝是先鐓粗,后沖孔,再滾壓。因此,缺陷的取向比軸類鍛件和餅類鍛件中的缺陷取向復(fù)雜。所以對(duì)這類鍛件一般采用()進(jìn)行檢測(cè)。
鋼材的熱處理的一般過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)()。
滲透檢測(cè)通常在()前進(jìn)行,表面處理后局部加工時(shí)需再次檢測(cè)。
表面活性劑分子在水或水溶液表面的吸附近于飽和時(shí),水或水溶液的極性表面在很大程度上就被表面活性劑分子覆蓋,這時(shí)水或水溶液的()。
常用的顯像方法包括()。