單項(xiàng)選擇題黏土中的氧化鎂含量應(yīng)小于()。

A、3.0%
B、4.0%
C、2.0%
D、1.0%


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2.單項(xiàng)選擇題按照[SiO4]4-的連接方式,石英有三種存在狀態(tài),870℃以下穩(wěn)定存在的是()

A、方石英
B、單斜石英
C、石英
D、鱗石英

3.單項(xiàng)選擇題在鈉—鈣—硅酸鹽玻璃中,下列那項(xiàng)不是SiO2的作用?()

A、降低熱膨脹系數(shù)
B、提高熱穩(wěn)定性
C、提高機(jī)械強(qiáng)度
D、補(bǔ)償坯體收縮作用

4.單項(xiàng)選擇題玻璃中的CaO主要作用是()。

A、反應(yīng)劑
B、助熔劑
C、穩(wěn)定劑
D、澄清劑

5.單項(xiàng)選擇題用于燒制硅酸鹽水泥熟料的鈣質(zhì)原料一般為石灰石和()。

A、方解石
B、泥灰?guī)r
C、白泥
D、白堊

6.單項(xiàng)選擇題陶瓷使用的鈣質(zhì)材料一般為()。

A、石灰石
B、方解石
C、泥灰?guī)r
D、白堊

7.單項(xiàng)選擇題鈣質(zhì)原料主要提供材料組成所需的()。

A、CaCO3
B、CaO
C、SiO2
D、Al2O3

8.單項(xiàng)選擇題無(wú)機(jī)非金屬材料常使用的原料方解石的主要成分是()。

A、CaCO3
B、CaO
C、SiO2
D、Al2O3

9.單項(xiàng)選擇題在無(wú)機(jī)非金屬材料的生產(chǎn)過(guò)程中,玻璃不需要進(jìn)行的一個(gè)環(huán)節(jié)是()。

A、粉體制備
B、原料的破碎
C、成型
D、高溫?zé)崽幚?/p>

10.單項(xiàng)選擇題目前各國(guó)的水泥生產(chǎn)均以()生產(chǎn)技術(shù)作為優(yōu)先發(fā)展對(duì)象。

A、干法中空窯
B、立波爾窯
C、窯外分解窯
D、立筒預(yù)熱器窯

最新試題

如在半導(dǎo)體的禁帶中有一個(gè)深雜質(zhì)能級(jí)位于禁帶中央,則它對(duì)電子的俘獲率()空穴的俘獲率。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

改良西門子法的顯著特點(diǎn)不包括()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

PN結(jié)的基本特性是()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

對(duì)于同時(shí)存在一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)的均勻摻雜的非簡(jiǎn)并半導(dǎo)體,在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時(shí),半導(dǎo)體具有()半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

鑄造多晶硅中的氧主要來(lái)源不包括()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

下列是晶體的是()。 

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

雜質(zhì)半導(dǎo)體中的載流子輸運(yùn)過(guò)程的散射機(jī)構(gòu)中,當(dāng)溫度升高時(shí),電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動(dòng)聲子的散射概率的變化分別是()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類和含量;②雜質(zhì)的分凝效應(yīng);③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng);④生長(zhǎng)過(guò)程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

用能量()禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會(huì)產(chǎn)生光生伏特效應(yīng)。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題