A.G/σ0
B.σ0/G
C.G·σ0
D.D/σ0
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A.380~400nm
B.350~380nm
C.250~300nm
D.100~250nm
A.水清洗
B.工業(yè)丙酮
C.稀釋劑x-1
D.工業(yè)丙酮與稀釋劑x-1混合液
A.聚焦探頭
B.雙晶探頭
C.直探頭
D.斜探頭
A.球孔
B.平底孔
C.橫孔
D.V 形槽試塊
A.缺陷波形緩降,底波明顯上升
B.缺陷波形陡直,底波明顯上升
C.缺陷波形緩降,底波明顯下降
D.缺陷波形陡直,底波明顯下降
A.0~3min
B.3~5min
C.5~10min
D.10~15min
A.醫(yī)療照射
B.實(shí)踐引起的照射
C.天然源照射
D.人工輻射
A.覆蓋范圍大,該方向上的空間分辨率好
B.覆蓋范圍大,該方向上的空間分辨率差
C.選擇多組測(cè)量單元,測(cè)量較大的區(qū)域
D.選擇多組測(cè)量單元,防止檢測(cè)時(shí)漏檢
A.平底孔試塊
B.ⅡW 試塊
C.CSK-ⅢA 試塊
D.CSK-I A 試塊
A.覆蓋性
B.通用性
C.可選性
D.針對(duì)性
最新試題
常規(guī)的縱波聲場(chǎng)或橫波聲場(chǎng),聲速是以一定的角度擴(kuò)散出去的,所以有()。
用雙晶探頭檢測(cè)時(shí),為增加缺陷顯現(xiàn)次數(shù)和反射幅度,檢測(cè)細(xì)長(zhǎng)缺陷應(yīng)使探頭()。
表面波檢測(cè)中,利用表面波檢測(cè)()效果好。
滲透檢測(cè)工藝對(duì)顯像操作的要求有()。
在沒(méi)有外加磁場(chǎng)作用時(shí),鐵磁性材料內(nèi)出現(xiàn)()現(xiàn)象。
與一次射線(xiàn)相比,散射線(xiàn)的()。
關(guān)于波束未擴(kuò)散區(qū),說(shuō)法正確的是()。
化學(xué)反應(yīng)型著色滲透劑的特點(diǎn)是()。
聚焦聲源發(fā)射的聲場(chǎng)特點(diǎn)是()。
滲透檢測(cè)時(shí),滲入的滲透液有一些被截留在缺陷內(nèi),將受檢部位置于合適的光源(發(fā)光強(qiáng)度足夠)下檢查時(shí),下列說(shuō)法正確的有()。