A、停顯液、醋酸、水
B、顯影液、醋酸、水
C、顯影液、定影液、水
D、顯影液、定影液、醋酸
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A、暗
B、亮
C、與透過(guò)底片的光亮度相同
D、以上都不對(duì)
A、30cd/m2
B、100cd/m2
C、1000cd/m2
D、3000cd/m2
A、底片靈敏度
B、底片寬容度
C、底片清晰度
D、源的強(qiáng)度
A、試件厚度差
B、射線的質(zhì)
C、散射線
D、以上均不對(duì)
A、前散射
B、背散射
C、側(cè)面散射
D、以上都不是
A、左移
B、右移
C、上移
D、下移
A、光電效應(yīng)
B、康普頓效應(yīng)
C、電子對(duì)生成效應(yīng)
D、電離效應(yīng)
A、射線源種類或管電壓有關(guān)
B、被檢材料種類和密度
C、X光管陽(yáng)極靶原子序數(shù)有關(guān)
D、被檢材料的原子序數(shù)
A、光電效應(yīng)
B、康普頓效應(yīng)
C、湯姆遜效應(yīng)
D、電子對(duì)生成效應(yīng)
A、hvεj
B、hv.εj
C、hv》εj
D、hv.1.02Mev
最新試題
特性是指實(shí)體所特有的性質(zhì),它反映子實(shí)體滿足需要的()
當(dāng)波束不再與缺陷相遇,則回波()
隨著渦流檢側(cè)儀器制造技術(shù)的發(fā)展,出現(xiàn)了多種型號(hào)的同時(shí)具備探傷、電導(dǎo)率測(cè)量()測(cè)量功能的通用型儀器。
渦流檢測(cè)中的對(duì)比試樣的()和材質(zhì)相對(duì)被檢測(cè)產(chǎn)品必須具有代表性。
渦流檢測(cè)線圈感應(yīng)和接收材料或零件中感生渦流的再生磁場(chǎng)的傳感器,它是構(gòu)成()系統(tǒng)的重要組成部分,對(duì)于檢測(cè)結(jié)果的好壞起著重要的作用。
渦流檢測(cè)線圈的互感線圈一般由()構(gòu)成。
在聲束垂直試件表面時(shí),所獲得的()反射波高可能并不是可獲得的最大反射波高。
用于測(cè)量黑光強(qiáng)度的現(xiàn)代黑光輻射照度計(jì),其探頭(傳感器)的光敏組件的前面有(),只適用于測(cè)量黑光。
缺陷檢測(cè)即通常所說(shuō)的渦流探傷主要影響因素包括()、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、邊條效應(yīng)、提離效應(yīng)等。
各類渦流檢測(cè)儀器的工作原理和()是相同的。